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機(jī)構(gòu)登錄

主要技術(shù)指標(biāo):真空度優(yōu)于1*10-10torr
功能/應(yīng)用范圍:超高真空生長磁性金屬超薄膜以及復(fù)雜氧化物薄膜
技術(shù)特色:能夠生長各種臺階樣品以及楔形樣品,樣品厚度誤差可以控制在原子層級的尺度
主要測試和研究領(lǐng)域:電子/信息技術(shù)