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離子濺射儀

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　　離子濺射儀　　技術(shù)方案　　1、采用平面磁控濺射靶頭進行靶材濺射，以確保工作過程樣品不會發(fā)生熱損傷；　　2、采用ARM作為處理器，全自主知識產(chǎn)權(quán)，擴展性好，可選配：　　（1）膜厚監(jiān)控組件：可預(yù)設(shè)期望鍍膜厚度，在工作過程中精確控制鍍膜厚度；　?。?）樣品臺加熱組件：可通過加熱提高膜層的致密性以及與基地的結(jié)合力。　　3、7英寸觸摸式液晶顯示屏，分辨率為800×480，全數(shù)字顯示。　　3.1）可設(shè)定：　?。?）濺射電流；　?。?）濺射時間；　?。?）靶材種類；　?。?）工作真空度；　?。?）工作氣體；　?。?）屏幕亮度等參數(shù)；　　3.2）可顯示：　?。?）濺射電流；　?。?）濺射剩余時間；　?。?）工作真空度；　?。?）靶材累計使用時間；　?。?）設(shè)備累計使用時間等參數(shù)。　　4、濺射電流：2-100mA連續(xù)可調(diào)，最小步長為1mA；　　5、濺射時長：1-999s連續(xù)可調(diào)，最小步長為1s; 　　6.濺射真空：4-20Pa連續(xù)可調(diào)，最小步長為0.1Pa; 　　7、濺射靶材：標配為高純鉑靶（純度4N9），規(guī)格為φ57×0.12mm；也可使用金、銀、銅、金鈀合金等金屬作為濺射靶材；　　8、真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸約為φ200×130mm；　　9、樣品臺：可自轉(zhuǎn)的不銹鋼樣品臺，直徑為φ125mm，轉(zhuǎn)速4-20rpm可調(diào)；　　10、靶材參數(shù)：系統(tǒng)提供金、鉑、銀、銅對于空氣和氬氣的工作參數(shù)，可直接使用。同時提供4種自定義靶材，用戶可根據(jù)自己需求設(shè)定工作參數(shù)；　　11、預(yù)濺射：具有全自動控制的預(yù)濺射擋板，確保工作過程穩(wěn)定可靠；　　12、一鍵操作：系統(tǒng)可自動完成抽氣、充氣、參數(shù)調(diào)整、預(yù)濺射、濺射鍍膜等工作過程；濺射完成后，關(guān)閉真空泵，系統(tǒng)自動充氣使真空室內(nèi)外壓力平衡；　　13、具備濺射電流和真空度雙重互鎖，安全可靠，任一條件觸發(fā)，系統(tǒng)即可停止工作，防止因為誤操作導(dǎo)致設(shè)備損壞；　　14、系統(tǒng)采用皮拉尼真空規(guī)作為真空測量元件；　　15、極限真空優(yōu)于1Pa，真空泵抽速為1.1L/s；　　16、具備實時曲線顯示濺射電流和真空度功能非常方便用戶了解系統(tǒng)工作狀態(tài)；　　17、采用獨特的靶材更換結(jié)構(gòu)，無需任何工具，即可實現(xiàn)快速更換靶材；　　18、儀器供電：AC220±10%V，額定功率500W、　　https://www.chem17.com/st506164/product_38092308.html 　　http://www.gevee-tech.com.cn/product/424.html

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