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中束流離子注入機(jī)

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中束流離子注入機(jī) 　　等離子中束流離子注入機(jī)產(chǎn)品介紹：　　離子注入機(jī)由離子源、質(zhì)量分析器、加速器、四級(jí)透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據(jù)實(shí)際需要省去次要部位。離子源是離子注入機(jī)的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子電離成離子，決定要注入離子的種類(lèi)和束流強(qiáng)度。離子源直流放電或高頻放電產(chǎn)生的電子作為轟擊粒子，當(dāng)外來(lái)電子的能量高于原子的電離電位時(shí)，通過(guò)碰撞使元素發(fā)生電離。碰撞后除了原始電子外，還出現(xiàn)正電子和二次電子。正離子進(jìn)入質(zhì)量分析器選出需要的離子，再經(jīng)過(guò)加速器獲得較高能量，由四級(jí)透鏡聚焦后進(jìn)入靶室，進(jìn)行離子注入。　　離子注入機(jī)是集成電路制造前工序中的關(guān)鍵設(shè)備，離子注入是對(duì)半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進(jìn)行摻雜的技術(shù)，其目的是改變半導(dǎo)體的載流子濃度和導(dǎo)電類(lèi)型。離子注入與常規(guī)熱摻雜工藝相比可對(duì)注入劑量、注入角度、注入深度、橫向擴(kuò)散等方面進(jìn)行精確的控制，克服了常規(guī)工藝的限制，提高了電路的集成度、開(kāi)啟速度、成品率和壽命，降低了成本和功耗。離子注入機(jī)廣泛用于摻雜工藝，可以滿(mǎn)足淺結(jié)、低溫和精確控制等要求，已成為集成電路制造工藝中*的關(guān)鍵裝備。　　等離子中束流離子注入機(jī)特點(diǎn)：　　?精確控制離子束流　　?精確控制加速電壓　　?占地小,操作簡(jiǎn)單,運(yùn)行成本低　　?特別適合于研發(fā)應(yīng)用　　?適用于4”~6”晶片，小可用于1*1cm2樣品（室溫）　　?4”熱注入模式，高溫度可達(dá)600度　　?2個(gè)帶有蒸發(fā)器的Freeman離子源，可使溫度達(dá)750度　　?1個(gè)Bernas離子源　　?非凡的鋁注入能力　　?一個(gè)主氣箱，配有4個(gè)活性氣體管路；一個(gè)副氣箱，配有4個(gè)中性氣體管路　　?高價(jià)樣品注入能力　　?注入角0~15度　　?IBS*的矢量掃描系統(tǒng) 　　?手動(dòng)裝載/卸載用于標(biāo)準(zhǔn)注入和熱注入，自動(dòng)25片cassette裝載用于標(biāo)準(zhǔn)腔室　　?遠(yuǎn)程操作控制接觸屏（5米鏈接線纜）　　?輻射低于0.6usv/hour 　　https://www.chem17.com/st320260/product_32206503.html

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